单元库特性提取

在纳米工艺技术——特别是在先进工艺节点（28nm及以下）——进行设计，需要许多附加的库视图，以便实现高质量的芯片，并避免由于不准确的签核级分析而导致的芯片重铸。为了管理泄漏功耗，通常具有低，典型和高阈值电压（SVT，LVT，HVT等）的单元，每个具有不同的功耗和性能特性。

对于特定实例的电压变化或温度梯度的精确建模，在多个电压和多个温度下表征每个库至关重要，这样就增加了库的边界情况的总数。对于先进的制程，提供替代的单元库，牺牲面积和性能以提高合格量，变得越来越普遍。因此，创建和维护所有这些库视图正在成为设计流程中的主要瓶颈。

Cadence提供以Cadence® Virtuoso® Characterization Suite为中心的库特征提取流程。该套件的应用范围包括标准单元，I / O，复杂多位单元，以及存储器和混合信号模块，它提供了在业界相对完整、强大的解决方案，对您的IP进行特性提取和验证。 Cadence的 Inside View 技术通过提高库吞吐量并确保IP的时序，功率，噪声和统计覆盖，提供与物理芯片的相关性。 Virtuoso Characterization Suite 还与 Cadence Spectre® 电路仿真器（工业标准SPICE仿真器）集成，可提供更高的吞吐量，具有先进工艺节点库所需的精度。