Virtuoso DFM

主要优点

  • 制造业标准的、综合性、基于模型的光学热点分析

  • 能设计中的、约束驱动的版图相关效应的可变性检测和优化

  • 更高的生产率和更可预测的流片进度表

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Cadence® Virtuoso® DFM 使设计人员能够准确评估物理和电气可变性,确保定制和混合信号设计、库和IP的可制造性,而无需离开 Virtuoso Layout Suite 环境。

Virtuoso DFM 保留设计意图(如电气约束),确保通过精确抽象快速收敛于设计目标,并通过接近线性的可伸缩性和自动修复错误提供高度收敛的结果。这使工程师能够实现“设计即正确”流程,以便他们可以高效地和可预测地实现与多个代工合作伙伴的前沿设计的流片。

Virtuoso DFM 允许设计人员识别、分析和自动优化由工艺相关的效应对设计的片上参数带来的影响,包括各种物理效应,如光刻、掩模、OPC,蚀刻和RET;以及版图相关效应,例如光刻,交叠,环境应力,拉力,相邻的阱的距离,意外的应力如浅沟槽隔离,接触孔之间的距离,等等。此外,Virtuoso方法学为设计人员提供了准确的基于模型的流程,以大限度地减少制造可变性对设计性能的影响。

功能特性

  • 采用slack-driven引擎,极小化设计迭代
  • 通过大规模并行架构处理大型设计
  • 提高情况组合的可变性
  • 用于定制设计实现的设计中DFM和可预测的DFM收敛
  • 经生产验证的“黄金”图案匹配器,用于 GLOBALFOUNDRIES 28nm工艺的设计中DRC+

 

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